| 模型 | BY-3073F |
|---|---|
| 使用的灯 | 低压UV灯 VUV-040/A-2.2U ・ 4灯 |
| 辐照距离 | 15毫米 |
| 照射面积 | 200W×200d |
| 辐照时间 | 0〜99min59sec（变量） |
| 排气臭氧清除 | 使用的臭氧分解过滤器 |
| 外部尺寸 | 580（w）×500（d）×240（h）mm 25kg |
日本源头报价 ORC 欧阿希 干燥处理器 VUM-3073F 形成精细模式
2025-03-03 17:30:08
admin
UV干燥处理器
VUM-3073F
用途
该设备通过在形成精细模式（例如半导体制造过程和液晶底物制造过程）的过程中将紫外线照射到底物表面上的有机物，从而消除有机物污染。可以清洁和修改表面而不会损坏板。
特长
它配备了独特的低压紫外灯，对板几乎没有损坏，并且具有很高的分解有机物的能力。
使用板摆动模式，将紫外线均匀辐射到板上。
板的加热不多。
可以应用两种切割臭氧和清除氮气的辐照方法。
规格
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